电子光学(半导体、PCB、芯片、晶片、摄像头、光学镜片、LCD、OLED、液晶、显器件FED、多晶硅等)的生产对车间环境要求很严，制造工序不同，部分区域的洁净度要求也不同，通常以十级、百级、千级、万级、十万级为标准。而每一个区域环境，如温度、湿度，洁净室工艺方面也要考虑照明、抗静电、抗威震、废弃废水、大宗气体和特殊气体的排放等，同样有规范标准，这些环境参数关系到产品的合格率和使用寿命，因此超洁净车间才能赋予产品品质上的首要保障。

• 光学无尘室净化工程一般包括：

1、洁净生产区，

2、洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等），

3、管理区（包括办公、值班、管理和休息等），4、设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）。

• 净化原理：

气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒→回风百叶窗→初效净化重复以上过程，即可达到净化目的。

• 净化参数：

换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa；平均风速：10级、100级0.3－0.5m/s；温度冬季＞16℃；夏季＜26℃；波动±2℃。湿度45－65％；GMP粉剂车间湿度在50％左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10％－30％；照度300LX。